新秀作家的登龙门“第76回学展 Art＆Design Award”将于8月举办。高桥一生参与特别影像企划，在国立新美术馆展出——作品报名截止至7月6日
内容摘要
第76回学展 Art＆Design Award将于2026年8月6日至16日在东京六本木的国立新美术馆举行。这是一场拥有70多年历史的公募展，汇集了从幼儿到美术大学生等广泛世代的次代艺术家作品。今年，NANZUKA代表南塚真史新加入评审团，演员高桥一生也将作为伴走者参与特别影像企划《関わり混ざる三日間》。该企划以“関わり混ざる”为主题，记录了不同世代参与者共同创作作品的纪录片影像作品。作品聚焦于通过创作产生的对话与关系，以及在与其他人互动中培育表达的过程，计划于8月8日在国立新美术馆讲堂的表彰式上首次公开。评审团包括艺术家ヒロ杉山、艺术收藏家牧正大、现代美术史家/策展人沓名美和、艺术家佐々木香菜子、Tokyo Art Beat执行编辑野路千晶以及NANZUKA代表南塚真史。作品报名目前正在进行中，截止日期为2026年7月6日23:59（日本时间）。
(来源：Tokyo Art Beat)